太美，楊青根本就不敢想象。
    其實從一百三十納米，一直到14納米左右，使用的光刻機都是浸潤式DUV光刻機，都是使用深紫外193納米準(zhǔn)分子激光光源，也就是說這條線，有著改進(jìn)到14納米的潛力。
    不過真的要改進(jìn)到14納米，不僅光刻機得大改，就連生產(chǎn)線都要重新設(shè)置。
    盡管暫時楊青也沒有心情，也沒有動力，進(jìn)行這么大的改進(jìn)，不過光是光刻機的操作系統(tǒng)，由小嬡全權(quán)接管，就已經(jīng)使得生產(chǎn)線的工作效率和光刻精度提升了幾倍不止。
    因為小嬡的資料，來自的都是那些代工大廠，7納米，甚至5納米的量產(chǎn)經(jīng)驗，早已經(jīng)超越了這臺老爺機不知道多少年。